1987年，对于团队来说，是一个重要的转折点。华光hg - 1纳入了“863计划”重点支持项目。这就像是给团队注入了一剂强心针，让他们更加坚定了研发的信心。“国家都这么支持我们，我们没有理由不把光刻机做好。”团队成员们相互鼓励着。1988年，在无锡建立了“国家光刻机示范基地”。这个示范基地，就像是一个展示中国光刻机技术的窗口，吸引了无数人的目光。
1988 - 1989年，团队开始向量产型光刻机发起冲击。华光hg - 2的研发过程同样充满了艰辛。他们不断优化设计，改进工艺，提高分辨率和产能。“这overlay精度一定要控制好，这关系到芯片的质量。”贾东旭在车间里不停地叮嘱着技术人员。终于，华光hg - 2成功问世。它的分辨率提升到了15μm，产能达到了60片\/小时，overlay精度控制在了±015μm。这款光刻机被应用到了绍兴华越微电子量产z80处理器，良品率达到了65。这一成果，让团队在国内半导体行业声名鹊起。
在国内市场逐渐站稳脚跟之后，团队开始把目光投向国际市场。1989年，通过香港渠道，他们成功将光刻机出口到了东南亚。这是他们走向国际的第一步，虽然只是一小步，但意义重大。“我们要让世界看到中国的光刻机技术。”贾东旭满怀豪情地说。1990年，他们在东德设立了技术服务中心。这一举措，不仅方便了为客户提供技术支持，也让他们更好地了解国际市场的需求。
1990 - 1991年，团队又开始了华光hg -