李一凡正在半导体产业园调研。自从3月份14nm刻蚀机通过台积电测试以来，中微的发展进入快车道。这个由凡星投资控股51的企业，正在用实力证明中国半导体产业的创新能力。
\"设备运行情况具体怎么样？\"李一凡问道。
\"各项指标都达到预期。\"中微董事长尹志尧汇报说，\"刻蚀均匀性控制在±15以内，良品率超过95。特别是在关键技术指标上，部分参数甚至优于同类产品。研发团队已经在为下一代产品做准备。\"
杨思涵博士向李一凡详细汇报了eda软件的应用情况。这套具有自主知识产权的芯片设计工具已经在14nm制程工艺的研发过程中得到充分验证。\"从2008年回国至今，我们团队一直专注于eda软件研发。现在这套系统在电路设计和验证环节的表现相当出色，特别是在14nm节点的设计验证方面，显着提升了研发效率。这为我们后续的技术突破奠定了坚实基础。\"
中微芯片研发组组长许思华也带来好消息。作为前arm架构设计经理，他对芯片设计有着深刻理解。\"在自主eda工具的支持下，我们的芯片设计团队研发进展顺利。已经完成了几款专用芯片的设计工作，性能指标达到预期。\"
正说着，长鑫存储董事长朱一明匆匆赶来，带来了更多好消息：二期项目的48家配套企业全部投产，从晶圆制造到封装测试，从设备到材料，完整的产业链已经形成。
\"投产以来，良品率稳定在92以上。\"朱一明说，\"特别是在高端内存芯片领域，我们已经打入国际供应链，获得了多家知名厂商的订单。这证明我们的技术水平和产品质量已经得到国际认可。\"
这一系列进展让李一凡很是欣慰。2008年，当初投资中微公司时，很多人都说他冒险。但他看准了中国半导体产业发展的机遇，坚持自主创新的道路。如今，从刻蚀机到eda软件，从芯片设计到晶圆制造，星城的半导体产业已经形成了完整的创新链条。