这是193nm波长的arf氟化氩准分子激光光源，使用步进式扫描投影方式可实现制程可以达到35-120nm。这就意味着华天科技将在芯片设计制造领域继续保持领先位置，原先储备的一些先进技术随着芯片加工精度的提升都可以实现工厂化生产，这将进一步拉开与欧美芯片企业的差距。
可能这个6月是从越的幸运月，接到乔栋才的电话一天之后，金陵激光光源研究所的周正给从越打来了电话，请从越无比抽空去一趟，因为他们在极紫光源的研发上取得了重大突破。
接到电话的从越立即放下手上的其他工作，立即前往金陵激光光源研究所，如今高速非常方便，很快从越就到了金陵所，预先接到通知的周正早就在门口等候了！
下车之后从越责怪道：“老周，这天不好你不在里面待着等我，跑外面干什么？淋坏了你，谁来帮我领导光源研发啊？”
周正憨厚的笑了笑：“我这不打着伞呢，没事！”
从越赶紧拉着周正一起进了研究所，到了办公室之后，从越问道：“先跟我说说，取得了什么重大进展了？”
周正汇报道：“经过大量的实验，我们最近发现使用锡（sn）液滴进行等离子体启动，经过几万度的高温可以将液态的锡原子被剥离成为离子，形成高度充电的等离子体。这个等离子体非常热，并且产生了euv辐射，其波长在10纳米至15纳米之间，产生的euv辐射就是光刻机所需的光源！”
从越紧张的问道：“稳定吗？进行过几次实验了？”
周正兴奋的说道：“首次成功之后，我们为了确认又进行了五次实验，次次都成功，也就是说成功率100。”
从越又问道：“第一台装机实验性光源最快什么时候可以组装出来？”
周正早就想到从越会这么问他，他脱口就道：“所需零部件我们所通过关联企业已经开始制造了，有一部分难度较高的零件我通过熊院士联系了相关精密制造企业进行了加工，高精度物镜也已经到位，最快在8月份就可以送到沪海进行首台euv光源的试验机组装。”