当时，赵胜利一路晃回家走一边感叹到不是那一场浩劫，咱们华夏的数控机床还有芯片还有集成电路科技，都能得到大大的发展。
到胜利知道，精密机床优势加工是制造光刻机所必用的。
1964年中国科学院研制出65型接触式光刻机，1970年代，我国科学院开始研制计算机辅助光刻掩膜工艺。
水木大学研制第四代分部式投影光刻机，并在今年获得成功。
光刻精度达到3微米，接近国际主流水平。
而那时，光刻机巨头asml还没诞生。
然而，我国就在今年放弃电子工业，导致20年技术积累全部付诸东流。
生产光刻机的汉口无线电元件三厂破产改制，卖副食品去了，让人惋惜。
在70年代初，摩尔定律尚未成熟之时，在集成电路行业。
我国与美国的差距有3-4个周期；哪像现在，80年代初，我国与美国的差距有7-8个周期。
由于我国涉入集成电路行业，比较晚。
为了“抄近路”，经常采用“逆向工程”的方式，进行集中“突破”。
在70年代，曾经先后逆向仿制了芯片nova系列、dec pdp，intel8080/8086cpu等。
但是，赵胜利在友谊桥头电子街买不到所要的电子元配件，更买不到仿制的芯片。
据电子厂的陈军在表哥陆羽的屋子里面唠叨，他们厂出产的逆向工程的“突破”生产的芯片，产量低的可怜。
每一种型号最多的也只有一千多片，甚至最低的只有几十片。
而且，贵的出奇，根本就没有大规模使用价值。
而美利坚是几万甚至几百万的进行量产！
这就是差距！
不能用相差周期不大，来衡量！
二者根本不是一个级别上！
浮华风吹过，说一句填补“国内空白”，而无法进行量产，更多是一种意向的安慰！
而数控机床，尤其是高级数控机床。
因为制造出芯片，光刻机依赖的超精度的步进马达、超高精度的光电测量、超高精度的激光定位闭环伺服